VIGO System rozpoczyna w 2020 roku seryjną produkcję materiałów półprzewodnikowych
We wrześniu zakończył się rozruch technologiczny urządzeń do produkcji materiałów półprzewodnikowych przeznaczonych do masowego zastosowania w fotonice i elektronice.
Jądrem nowej linii produkcyjnej uruchamianej w zakładzie VIGO System jest nowoczesny reaktor epitaksjalny AIX 2800 G4 firmy Aixtron, służący do wydajnej produkcji, metodą MOCVD, płytek półprzewodnikowych ze związków chemicznych z grup III i V układu okresowego pierwiastków. Materiały półprzewodnikowe, które będzie seryjnie produkować VIGO System, znajdą zastosowanie przy produkcji laserów i fotodetektorów, w coraz większym stopniu wykorzystywanych w elektronice użytkowej oraz w motoryzacji.
– Sprzedaż seryjnie produkowanych materiałów półprzewodnikowych to jeden z filarów strategii rozwoju VIGO System na najbliższe lata. Nowy obszar biznesu wprowadza nas na rynek produktów masowych, o dynamicznie rosnącej wielkości i zdecydowanie atrakcyjnych marżach. Wierzymy, że seryjna produkcja materiałów dla fotoniki stworzy dla nas również nowe szanse biznesowe w segmencie produkcji detektorów podczerwieni dzięki bliższej współpracy z producentami laserów i fotodetektorów innego typu – komentuje Adam Piotrowski, prezes VIGO System.
Produkowane przez VIGO System materiały półprzewodnikowe będą miały szerokie zastosowanie w fotonice. Jednym z najbardziej biznesowo atrakcyjnych obszarów zastosowania materiałów półprzewodnikowych jest produkcja laserów VCSEL, znajdujących coraz to nowe zastosowania m.in. w motoryzacji (lidarowe urządzenia wspomagające, samochody autonomiczne), robotyce, nowoczesnym druku czy w dronach.
Mnogość i masowość zastosowań urządzeń bazujących na materiałach półprzewodnikowych z grup III i V sprawia, iż nowy segment działalności VIGO System ma duży potencjał rozwoju i dynamicznego wzrostu w krótkim okresie – ocenia Włodzimierz Strupiński.